鍍鉻液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度對(duì)內(nèi)電阻縱向分布狀態(tài)有著顯著的影響。實(shí)踐證明：隨著鍍液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度的增加，內(nèi)電阻縱向分布不均勻性逐漸得到改善。三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較高時(shí)，溶液在槍管內(nèi)自下而上的流速變慢，這顯然是氣體生成速率較慢所導(dǎo)致的。溶液流速變慢，使溶液的質(zhì)量濃度梯度變大，導(dǎo)致溶液電阻縱向梯度增大;同時(shí)縮小了上下部陰極表面溶液的交替速率差，導(dǎo)致極化電阻縱向梯度降低。溶液電阻縱向梯度的增大和極化電阻縱向梯度的降低，都有利于上大下小的電阻(包括陽(yáng)極電阻)梯度的形成，從而提高電流縱向分布的均勻性。

       鍍鉻過(guò)程中，堿式鉻酸鉻薄膜在陰極表面不斷生成，而硫酸鉻離子不斷在陰極溶解堿式鉻酸鉻薄膜。成膜和溶解的過(guò)程在陰極表面上交替進(jìn)行，當(dāng)膜的溶解速率較慢時(shí)，氫氣析出較快;當(dāng)膜的溶解速率較快時(shí)，氫氣析出較慢。由此認(rèn)為：當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較高時(shí)，溶液中硫酸鉻離子的數(shù)量增多，在陰極上加快了堿式鉻酸鉻薄膜的溶解，因而也就減緩了氫氣的析出?？赡苁怯捎谌齼r(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻時(shí)需克服的阻力比氧氣析出時(shí)需克服的阻力小，所以當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度增加時(shí)，三價(jià)鉻氧化成六價(jià)鉻的反應(yīng)速率加快，相應(yīng)地抑制了氧氣的生成速率。

       鑒于此，對(duì)于槍管(特別是細(xì)長(zhǎng)槍管)鍍鉻，鍍鉻液中三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度必須維持在10 g/L以上(工藝規(guī)定在8—12 g/L范圍內(nèi))。當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度較低時(shí)，上部鉻層沉積速率快、下部慢，形成上厚下薄的不均勻鍍鉻層。但是，當(dāng)三價(jià)鉻的質(zhì)量濃度過(guò)高時(shí)(一般14 g/L以上)，上部鉻層沉積速率慢、下部快，形成上薄下厚的不均勻鍍鉻層。

       另外，三價(jià)鐵離子也有影響，其對(duì)陰極表面成膜與溶解交替的過(guò)程，與三價(jià)鉻有著相似的作用。也就是說(shuō)三價(jià)鐵離子和三價(jià)鉻都影響氫氣的生成速率。所以在工藝中規(guī)定三價(jià)鐵離子的質(zhì)量濃度應(yīng)小于8 g/L。